▲ 삼성전자가 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동을 시작한다고 30일 밝혔다. 사진은 평택 2라인 전경.
▲ 삼성전자가 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동을 시작한다고 30일 밝혔다. 사진은 평택 2라인 전경.

 

삼성전자가 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동을 시작한다고 30일 밝혔다.
평택 2라인 가동을 통해 업계 최초로 EUV(Extreme Ultraviolet·극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이 생산한다.

◇역대 최대 용량·최고 속도…1초당 풀HD 영화 10편 처리
삼성전자에 따르면 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산제품으로는 처음 EUV 공정이 적용됐다. 역대 최대 용량과 최고 속도를 동시에 구현한 업계 최초의 3세대 1z LPDDR5 제품이다.
삼성전자는 지난 2월 2세대 10나노급(1y) 공정으로 역대 최대 용량의 16GB LPDDR5 D램을 양산한 지 6개월 만에 차세대 1z 공정까지 프리미엄 모바일 D램 라인업을 강화하게 됐다.
이번 제품은 기존 플래그십 스마트폰용 12Gb 모바일 D램보다 16% 빠른 6400Mb/s의 동작 속도를 구현했다. 16GB 제품 기준으로 1초당 풀HD급 영화(5GB) 약 10편에 해당하는 51.2GB를 처리할 수 있다.
또 8개의 칩만으로 16GB 제품을 구성할 수 있어 기존 제품 대비 30% 얇은 패키지를 만드는 것도 가능하다. 이를 통해 멀티카메라, 5G 등 부품수가 많은 스마트폰 및 폴더블폰 등 두께가 중요한 제품에 최적의 솔루션을 제공할 전망이다.
삼성전자는 업계 유일의 차세대 1z 16GB 모바일 D램으로 내년 출시되는 AI 기능이 강화된 5G 플래그십 스마트폰 시장을 선점할 계획이다. 또 고온 신뢰성도 확보해 전장용 제품까지 사용처를 확대해 나갈 예정이다.
◇세계 최대 반도체 생산라인…’반도체 초격차’ 핵심 기지
평택 2라인은 축구장 16개 크기(연면적 12만8900㎡)에 달하는 세계 최대 규모의 반도체 생산라인이다. 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지 평택캠퍼스의 하나로 지난 2018년 1월 착공됐다.
차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 구축돼 D램 양산을 시작으로 4차 산업혁명 시대 반도체 초격차 달성을 위한 핵심 기지가 될 전망이다.
삼성전자 메모리사업부 DRAM개발실 이정배 부사장은 “1z 나노 16Gb LPDDR5는 역대 최고 개발 난도를 극복하고 미세공정의 한계 돌파를 위한 새로운 패러다임을 제시한 제품”이라며 “프리미엄 D램 라인업을 지속 확대해 고객 요구에 더욱 빠르게 대응하고 메모리 시장 확대에 기여할 것”이라고 밝혔다.

◇이재용 “위기 속에서도 투자”…강력한 육성 의지 빛 발해
삼성전자가 세계 최초로 EUV 기술을 적용한 차세대 모바일 D램 양산에 성공한 것은 ‘위기 속에서도 끊임없는 투자를 통해 근원적 기술 경쟁력을 확보해야 한다’는 이재용 부회장의 강력한 차세대 기술 육성 의지가 있었기에 가능했다.
이재용 부회장은 인공지능, 5G, 자율주행용 반도체 분야에서 초격차를 이루기 위해 고성능, 저전력 반도체 개발에 필수적인 차세대 ‘EUV 기술’ 연구에 지대한 관심을 갖고 직접 챙겨 왔다.
이재용 부회장은 지난해 4월 ‘시스템반도체 비전 선포식’ 당시, 세계 최초 EUV 전용 생산시설인 ‘V1라인’ 건설 현장을 직접 찾았고, 올해 초에는 화성에 위치한 반도체연구소와 생산라인을 방문해 ‘EUV 기술’ 개발 현황과 라인 가동 상황을 점검한 바 있다.
꾸준히 준비해 온 삼성의 ‘EUV 기술’은 속속 가시적인 성과를 보이고 있다.삼성전자는 최근 7나노 EUV 기술을 적용한 IBM의 차세대 서버용 POWER 10  프로세서를 수주했다.

◇불확실성 속 끝없는 미래 투자…’사법리스크에 발목’ 우려도 
삼성전자는 코로나19 재확산과 미중 무역 갈등 속에 불확실성이 커진 상황에서도 ‘미래를 위한 투자를 멈춰선 안된다’는 이재용 부회장의 의지와 결단에 따라 대규모 투자를 지속하고 있다.
이에 따라 삼성전자는 올해 5월 평택 2라인에 파운드리 생산시설을 구축하겠다고 발표한데 이어 6월에는 평택 2라인 낸드플래시 생산시설 투자 계획까지 발표하며 미래를 위한 준비를 착실히 해나가고 있다. 이들 라인 모두 오는 2021년 하반기부터 본격 가동될 예정이다.
삼성전자는 평택 2라인에 총 30조원 이상의 대규모 투자를 계획하고 있다. 이에 따라 직접 고용 인력 약 4000명, 협력사 및 건설 인력 등을 포함해 총 3만명 이상의 고용 창출 효과가 날 것으로 보고 있다.
이재용 부회장은 지난 5월 ‘평택 EUV 파운드리 라인’ 구축 결정 당시에는 DS부문 경영진들에게 “어려울 때일수록 미래를 위한 투자를 멈춰서는 안된다”고 강조한 바 있다.
한편, 재계에서는 이 부회장을 둘러싼 사법리스크가 미래를 대비한 대규모 투자를 위축시킬 것이란 우려도 고개를 들고 있다.재계 관계자는 “삼성의 사법리스크가 삼성이 주도 중인 ‘시스템반도체 비전’과 같은 범국가적 성장 사업 육성 계획에 발목을 잡을 가능성도 있다”고 말했다.
외신에서도 이 부회장에 대한 사법 리스크가 삼성의 미래 준비에 큰 지장을 줄 것이라는 분석이 나왔다. 최근 블룸버그는 이 부회장 없이는 M&A 또는 전략적 투자 등 중요 의사결정이 어려워진다고 보도했다. 
일본 니케이도 대규모 투자 등 경영 전략을 속도감 있게 추진하기 위해서는 오너 경영자의 구심력이 필요하다는 입장을 소개했다. 특히 사법 리스크가 삼성의 중장기 전략 수립 지연 등으로 이어질 수 있다고 지적했다. 영국 이코노미스트는 검찰 수사로 사법 리스크와 불확실성이 가중돼 삼성의 실적에 그림자를 드리울 수 있다고 분석했다.
평택 = 김덕현 기자

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